不知道如何提高X荧光光谱仪的机械强度？进来看

 　　X荧光光谱仪包括一个光学平台，可大大减少杂散光并提高机械和温度稳定性。这个新的光学平台具有双内置模式消除器和多级复合抛物面反射镜，因此杂散光减少至0.04％，是标准光谱仪的2.5倍。除了显着改善杂散光之外，这种新的光学平台还将光谱仪的机械强度提高了10倍以上，从而使其对机械变形和温度变化的敏感性降低。

 

　　X荧光光谱仪的低杂散光特性使其特别适合需要测量高吸光度的应用，例如高化学浓度，高光密度光学组件和长光程测量。这种新型的光学平台和光谱仪既适用于OEM应用又适用于单仪器应用。该仪器具有较低的杂散光（400nm下为0.015％）效果，并且在可见光范围（360-825nm）内具有良好的颜色测量效果，从而提高了低照度下测量的灵敏度和处理效果。

 

　　1、具有良好的热稳定性，其性能可与科研级光谱仪相媲美，可以选择以满足各种应用挑战。

 

　　2、使用变节距凹面光栅。这种设计使光谱系统更加有效。中心光栅线密度为550（+/-2）标线/mm，标称火焰波长为400nm。

 

　　3、配备的凹面光栅非常有助于提高其热稳定性。在较宽的温度范围内进行测量。结果，几乎没有波长漂移，并且峰形具有良好的保留效果。因此，在要求低杂散光和热稳定性的精密测量，荧光测量或吸光度测量中。

 

　　4、该仪器测量能力适用于要求宽测量范围，低杂散光，高处理效率和良好热稳定性的各种应用：

 

　　（1）大气中的痕量气体成分。

 

　　（2）光学致密物质溶液的吸光度。

 

　　（3）LED/激光和其他光源的精密测量。

 

　　（4）组织医学辐射和生物介质的测量。

 

　　（5）固体表面荧光的测量溶液和粉末中的反向散射/荧光溶液。